產(chǎn)品詳情
一、UV光解除臭設(shè)備：采用波長(zhǎng)低于280nm，一般采用185nm的UVC紫外光源進(jìn)行廢氣處理。其主要原理是利用中短波紫外線光子所攜帶的能量較強(qiáng)。315nm~280nm的中波紫外，能量強(qiáng)度為3.94eV~4.43eV；280nm~100nm的短波紫外，能量強(qiáng)度為4.43eV~12.4eV，通過紫外線的光子轟擊有機(jī)物的分子鏈，實(shí)現(xiàn)分子鏈的斷裂，斷裂的有機(jī)物成分與氧氣、臭氧等反應(yīng)，生成產(chǎn)物為CO?和H?O等無害物質(zhì)。
UV光催化氧化除臭設(shè)備：與UV光解設(shè)備類似的，還有一種光催化氧化技術(shù)。該設(shè)備采用光催化劑，利用催化劑在紫外光（一般是波長(zhǎng)在365nm以下的光源）的照射下，產(chǎn)生電子空穴。電子空虛分解催化劑表面吸附的水產(chǎn)生羥基自由基，或使其周圍的氧還原成活性離子氧，從而具備極強(qiáng)的氧化還原能力，將光催化劑表面的各種污染物分解。光催化氧化技術(shù)采用的光源波長(zhǎng)較長(zhǎng)、可散射的距離遠(yuǎn)，覆蓋的有效凈化區(qū)域空間大，但光催化劑易中毒而失效。
UV光催化氧化除臭設(shè)備：與UV光解設(shè)備類似的，還有一種光催化氧化技術(shù)。該設(shè)備采用光催化劑，利用催化劑在紫外光（一般是波長(zhǎng)在365nm以下的光源）的照射下，產(chǎn)生電子空穴。電子空虛分解催化劑表面吸附的水產(chǎn)生羥基自由基，或使其周圍的氧還原成活性離子氧，從而具備極強(qiáng)的氧化還原能力，將光催化劑表面的各種污染物分解。光催化氧化技術(shù)采用的光源波長(zhǎng)較長(zhǎng)、可散射的距離遠(yuǎn)，覆蓋的有效凈化區(qū)域空間大，但光催化劑易中毒而失效。
