日本HD離子設備諧波CSF-50-160-2UH?

數量(臺) 價格
100 22112.00元/臺
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第14年

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詳細參數
品牌HarmonicDrive型號CSF-50-160-2UH,
類型諧波減速器載荷狀態(tài)強沖擊載荷
傳動比級數無級軸的相對位置立式加速器
傳動布置形式擺線式加工定制是
樣品或現貨現貨齒面硬度硬齒面
布局形式三環(huán)式用途減速機
輸入轉速1450rpm額定功率360kw
輸出轉速范圍50rpm許用扭矩691N.m
使用范圍礦產減速比50
產地日本

產品詳情

常用的干法等離子體反應器類型包括圓筒式等離子體反應器、平板式反應器、日本HD離子設備諧波CSF-50-160-2UH順流刻蝕系統(tǒng)、三級平面反應器、離子銑、反應離子刻蝕器、高密度等離子體刻蝕機等。

圖2.19所示為由平板反應器構成的平板等離子刻蝕機系統(tǒng)日本HD離子設備諧波CSF-50-160-2UH。反應器有兩個大小和位置對稱的平行金屬板，硅片背面朝下放置于接地的陰極上面，RF信號加在反應器的上電極。由于等離子體電勢高于地電勢，因此這是一種帶能離子進行轟擊的等離子體刻蝕模式。一個刻蝕系統(tǒng)的能力及控制方法對成功加工硅片非常關鍵。

早期濕法腐蝕主要用于硅片刻蝕，現在濕法腐蝕的功能大部分被干法刻蝕代替。目前濕法腐蝕主要用于漂去氧化物、去除殘留物、表層剝離，以及較大特征尺寸的圖形腐蝕。濕法腐蝕設備較為簡單，日本HD離子設備諧波CSF-50-160-2UH通常使用一個液體槽，采用浸泡或噴射的方法批量處理硅片。

濕法腐蝕設備的主要控制參數包括溶液濃度、浸泡時間、腐蝕槽的溫度、溶液槽的攪動、處理硅片的批次等。


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